亚微米高纯透明氧化铝陶瓷材料的制备方法，属于透明氧化铝陶瓷材料制备技术领域。其特征在于它依次含有如下技术工艺：用干压加冷等静压的成型工艺把α－Al2O3粉末成型；然后对这些坯体使用无压预烧结：无压预烧结的温度为（1200～1350）℃，时间为（30～480）分钟；把预烧结后的坯体置入热等静压炉中进行后处理，处理温度为（1150～1350）℃，压力为（140～190）MPa，保温保压的时间为（30～60）分钟，用Ar气作保护气，得到的陶瓷体相对密度大于99.9％；最后对烧结出的陶瓷体进行平面磨制和抛光。它不用加任何添加剂，工艺简单；采用低温烧结，能耗低；尤其是晶粒尺寸小于1μm，故称为亚微米氧化铝陶瓷。因而具有较高的透光度和机械性能，适合于制造高压钠灯管、高温炉观察窗以及用作装饰材料等。总之，透明陶瓷几乎在许多现代科学技术领域和日常生活中都有用武之地，其品种之多，本领之高，用途之广泛，真不愧为陶瓷工业中的一颗透明莹亮的明珠。由于高温高压的钠蒸气腐蚀性极强，一般的抗钠玻璃和石英玻璃均不能胜任；而采用半透明多晶氧化铝为的是抵抗钠的腐蚀。
最近，国内某研究所课题组在低对称体系的氧化铝透明陶瓷的制备方面取得了重要的进展，并申请列发明专利。从上世纪60年代初第一块氧化铝透明陶瓷问世以来，透明陶瓷取得了令人瞩目的进展。透明陶瓷作为一种新兴材料除了本身具有宽范围的透光性外，还具有高热导率、低电导率、低介电常数和介电损耗、高强度、高硬度、耐磨损、耐腐蚀性好等一系列优异的综合性能。与玻璃材料相比，透明陶瓷除具有高强度、高硬度等优点，还具有更高的韧性，更好的抗表面损坏性能；与单晶相比，又具有更低的制备温度和更短的生产周期，而且在尺寸和结构上更容易控制。因此，透明陶瓷逐渐在照明技术、光学、特种仪器制造、电子技术及高温技术、航空航天等领域获得日益广泛的应用。然而，迄今高质量的透明陶瓷仅局限于高对称性的立方晶系，如CaF2、Y2O3、YAG等，其光学性能可与相应的单晶媲美；而低对称体系透明陶瓷的研究一直徘徊在较低水平，研究对象局限于氧化铝，而且光透过率较低。研究人员发现，六方晶系的氧化铝在光学上属于一轴晶非均质体，对光线有双折率现象；当光线穿过任意取向的两相邻晶粒时，会发生晶界双折射；多晶陶瓷存在着成百上千任意取向的晶粒，多次反复的双折射最终导致透过率的下降；也严重阻碍了低对称体系透明陶瓷的发展。研究人员提出，当各个晶粒的光轴相互平行排列时，在理论上晶界双折射可以消除；在强磁场中氧化铝颗粒的c轴会沿着磁场方向排列，而氧化铝的c轴就是光轴方向。据此，他们通过磁场辅助的注浆成型方法，制备出氧化铝颗粒具有取向性排列的陶瓷坯体，然后经过氢气氛烧结得到光轴相互平行的透明多晶氧化铝陶瓷。与晶粒无序排列的半透明氧化铝陶瓷相比，光学性能得到了大幅度提高，未来有望替代蓝宝石单晶材料用于可见－红外窗口、透明装甲以及激光介质材料。该研究方法还可以拓展应用于其它低对称体系透明陶瓷的探索研究。透明氧化铝陶瓷放电管由圆形筒和两个带细管的碗形件三件体构成，第一个带细管的碗形件由圆筒、细管和球形或椭球形过渡圆筒组成，用模具一次压制成型，两个带细管的碗形件的形状尺寸相同，第二个带细管的碗形件同样由圆筒、细管和球形或椭球形过渡圆筒组成，用模具一次压制成型，两个带细管的碗形件的圆筒与圆形筒的端部过盈配合。这种结构有利于提高陶瓷金属卤化物灯电弧管两端的冷端温度，使电弧管内的蒸气压升高，增加参于放电发光的金属原子的浓度和数量，从而提高灯的光、色性能，同时制造工艺简单，有利于陶瓷放电管烧结密封的可靠性。透明氧化铝陶瓷托槽及其制造方法，涉及口腔正畸技术所使用的陶瓷托槽及制造方法，具体涉及透明氧化铝陶瓷托槽及制造方法。一种透明氧化铝陶瓷托槽，包括托槽体1、托槽翼2，所述托槽陶瓷的平均晶粒尺寸为0.3至5微米。一种透明氧化铝陶瓷托槽的制造方法，包括下列步骤：将纯度大于99.9％的超细氧化铝粉料混合成型；经过脱脂后，在1200至1500℃，在空气中烧结；然后在1100至1400℃下进行热等静压处理。本发明制造的透明氧化铝陶瓷强度高，表面光滑，摩擦力与金属托槽相当，并且烧结温度低，工艺简单，适合规模生产。