负性光致抗蚀剂的主要种类有聚肉桂酸酯类、聚烃类一双叠氮系、聚酯类。以聚烃类一双叠氮系为例说明如下。
聚烃类一双叠氮系光致抗蚀剂是由聚烃类树脂、双叠氮型交联剂和增感剂溶于适当的溶剂配制而成，由于它和衬底材料，特别是金属衬底的黏附性较好，并且具有较好的耐腐蚀性能，因而在集成电路、大面积集成电路以及各种薄膜器件的光刻工艺中得到广泛应用。
含有叠氮官能团的有机化合物，在光或热的作用下，分解生成氮烯(nitrene)自由基，即：
RN3——R-N：(三重态氮烯)或R-N.(单一态氮烯)
双叠氮交联剂感光分解后，生成的双氮烯自由基具有较强的化学活性，极易与相混合在一起的聚烃类分子链上的不饱和双键进行加成反应，生成具有三维结构的不溶性产物，而未经感光的光致抗蚀剂则保持它的原有的溶解性质，显影后形成负性图像。
双叠氮交联剂的感光波长范围为260~460nm，添加适宜的增感剂，例如二苯甲酮、蒽醌、吖啶酮等，可以使光致抗蚀剂的感光度有所提高。